光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用---和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术.
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如ic（integrated circuit，集成电路）、fpd（flat panel display，平板显示器）、pcb（printed circuit boards，印刷电路板）、mems（micro electro mechanical systems，微机电系统）等。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光学玻璃是指能改变光的传播方向，并能改变紫外、可见或红外光的相对光谱分布的玻璃。狭义的光学玻璃是指无色光学玻璃;广义的光学玻璃还包括有色光学玻璃、激光玻璃、石英光学玻璃。赓旭光电光学玻璃可用于制造光学仪器中的滤光片、透镜、棱镜、反射镜及窗口等。由光学玻璃构成的部件是光学仪器中的关键性元件。
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掩膜（mask）：全称单片机掩膜，是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。优点是：程序---、成本低。缺点：批量要求大，光罩，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同时生产，供货周期长。
镇江光罩-制版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）有实力，---，在江苏 苏州 的光电子、激光仪器等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益---的工作态度和不断的完善---理念将促进苏州制版和您携手步入，共创美好未来！
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