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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,制版,如ic(integrated circuit,集成电路)、fpd(flat panel display,制版厂家,平板显示器)、pcb(printed circuit boards,印刷电路板)、mems(micro electro mechanical systems,微机电系统)等。
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刻蚀或离子注入完成后,将进行光刻的后一步,即将光刻胶去除,以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常,半导体器件制造整个过程中,会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻,而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。
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光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用---和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进式光刻,接触式光刻等多种光刻技术.
光刻板的应用光刻技术主要应用于半导体器件,集成电路制造过程中
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