公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
用选定的图像、图形或物体,对处理的图像(全部或局部)进行遮挡,来控制图像处理的区域或处理过程。用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。光学图像处理中,掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中,掩模为二维矩阵数组,有时也用多值图像。
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光掩膜一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过---将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具,光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
烤版如需要烤版,烤版时要注意:首先要选好烤版胶,烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制,一定要用热水溶胶,胶要---溶开、过滤再用。把适量的烤版胶涂在版面上,光刻板,用海绵将版面涂擦均匀。烤版胶不能用干布擦拭。版材在烘版箱中烘烤,图像区域会均匀变色。不同的ps版,烘烤时间、温度及终颜色会不一致,所以需通过试验确定烤版条件。
烤版时还要注意:烤版箱内的红外灯管一定要横向排列,如纵向排列,往往导致印版瓦楞状变形而影响使用。烤版胶浓度要合适,如烤版胶太稠,烤版效果和上墨效果也不会令人满意;如烤版胶太稀,烤出的版容易上脏。烤版温度不能过高,温度过高也会导致铝版基韧化和发软,树脂层焦化,影响耐印力。
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