公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,制版,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻机的结构和工作原理:
光刻机的光源有:激光,紫外光、深紫外光、极紫外光。现在---技术是极紫外光。
下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图:
在制造芯片时,制版公司,首先在晶圆(硅晶片)表面涂光感胶,再用光线透过掩模版(相当于芯片电路图纸的底片)照射硅片表面,被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶,制版报价,电路图就印到硅片上。
此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。
硅片上有了电路图的图样后,就轮到刻蚀机登场,刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工,在硅片表面雕刻出晶体管和电路。
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光呆板业界别称光掩模板、掩膜版,光罩,英文名字mask或photomask),材料:石英玻璃、金属铬和光感应胶,该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底,在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位,便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造,称之为光刻掩模板。
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什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构,称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块多至十几块)相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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