公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，制版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，制版报价，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光学掩模板的应用
光掩膜用于芯片制造，主要是ic（集成电路）芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及pc板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的---，这个时候的掩膜也可称为光罩。
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光罩（英文：reticle， mask），在制作ic的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型---晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像至相片上。
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光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了---光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
制版报价-制版-光刻版(查看)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务，公司拥有“苏州制版”等品牌，---于光电子、激光仪器等行业。欢迎来电垂询，联系人：马经理。
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