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光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，制版厂家，该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，制版报价，例如玻璃、sos中的蓝宝石。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过---过程将图形信息转移到产品基片上。
1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（gds格式）2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式---（---波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应3） 经过显影、定---，---区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层4） 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，制版价格，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。5） 在有---的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。
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如需要烤版，烤版时要注意：首先要选好烤版胶，烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制，一定要用热水溶胶，舟山制版，胶要---溶开、过滤再用。把适量的烤版胶涂在版面上，用海绵将版面涂擦均匀。烤版胶不能用干布擦拭。版材在烘版箱中烘烤，图像区域会均匀变色。不同的ps版，烘烤时间、温度及终颜色会不一致，所以需通过试验确定烤版条件。
制版厂家-舟山制版-光刻版(查看)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）是从事“光电材料,光刻掩膜版”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供高的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：马经理。
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