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    2020-7-31

马经理
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刻蚀或离子注入完成后,将进行光刻的后一步,即将光刻胶去除,以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常,半导体器件制造整个过程中,会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻,而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。










光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业,下游主要包括ic制造、ic封装、平面显示和印制线路板等行业,应用于主流消费电子 (手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、led 照明、物联网、电子等终端产品。


目前全球范围内光刻掩膜版主要以生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,所以光刻掩膜版都是由---生产商进行生产。







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机显时还要注意以下几点:要定期维护显影机,以---已---的ps版显影能正常进行。在显影之前必须保持各传动辊清洁,若牵引辊不干净,显影时印版易粘上脏点。如显影机有涂胶装置,一定注意胶辊要保持清洁,否则要弄脏印版。一般情况下,制版厂家,阳图ps版显影液(原液)的显影能力为10m2/l。上保护胶时,一定要均匀施胶,不能太厚,以免干后导致涂层龟裂和掉版。





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