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什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构,制版公司,称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块多至十几块)相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物,这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了---光刻版洁净,必须定期对光刻版进行清洗,而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
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石英岩是一种主要由石英组成的变质岩(石英含量大于85%),是石英砂岩及硅质岩经变质作用形成。一般是由石英砂岩或其他硅质岩石经过区域变质作用,重结晶而形成的。也可能是在岩浆附近的硅质岩石经过热接触变质作用而形成石英岩。
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