公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光掩膜一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过---将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具，光刻板，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
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网点：网点是组成印刷图案的zui小单位。凹版网点由于制版方式的不同，版辊上所反映的网点也有所差别：电雕雕刻网点随着网成的变化，网点的大小和---也跟随着变化；涂布腐蚀网点随着网成的变化，只在网点大小上变化；激光版网点不同网成的变化一般则表现在网点---上。
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在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有称为中间掩膜，reticle作为单位译为光栅)，用步进机重复将比例缩小到master maks上，应用到实际---中的为工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask复
衢州光刻板-光刻板由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务，公司拥有“苏州制版”等品牌，---于光电子、激光仪器等行业。欢迎来电垂询，联系人：马经理。
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