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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构。掩膜版应用十分广泛,张家港制版,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如ic(integrated circuit,集成电路)、fpd(flat panel display,平板显示器)、pcb(printed circuit boards,印刷电路板)、mems(micro electro mechanical systems,微机电系统)等。
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一种具有保护环的光刻板,包括光刻板本体和设置在光刻板本体外圈的保护环,所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起,所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔,所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处,所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘,所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。
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业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 mask 或 photomask),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,制版,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备---在感光胶上,被---的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似---后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:---,显影,去感光胶,后应用于光蚀刻。
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