公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,制版厂家,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像lcd,pcb等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,制版,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,制版价格,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
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刻蚀或离子注入完成后,将进行光刻的后一步,即将光刻胶去除,以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常,半导体器件制造整个过程中,会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻,而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。
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玻璃反光解决方案
使用背光源,在玻璃下方用光源吧吧整个玻璃照亮可使玻璃不会反光在条件不允许使用背光源情况下使用 上光源 吧玻璃全部照亮,不要产生点光源得效果在机器视觉标定时使用蓝光效果会---得标定如果以上解决不了得话,可选用陶瓷标定板,表面漫反射效果 不会反光,
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