公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像lcd,pcb等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,制版价格,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,制版,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
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光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用---和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进式光刻,接触式光刻等多种光刻技术.
光刻板的应用光刻技术主要应用于半导体器件,集成电路制造过程中
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光刻板本体的外部边缘增设一保护环,保护环具有多种开孔,以便在保护环处的硅片的边缘处刻出晶粒,将光刻板本体处的硅片保护起来,硅片边缘刻出晶粒后,边缘的不合格情况通过目测可以清楚看出,能有效防止混料情况;利用本实用新型刻出的硅片,在高压测试时,能防止漏电打火,安全性能具有较大提高
制版-制版-光刻板(查看)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司(www.szphotomask.com)为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务,公司拥有“苏州制版”等品牌,---于光电子、激光仪器等行业。欢迎来电垂询,联系人:马经理。
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