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通过金属化过程,在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在---(一般是紫外线)后可以被特定溶液(显影液)溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上,可以对光刻胶进行选择性照射(---)。然后使用前面提到的显影液,溶解掉被照射的区域,这样,光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施,淮安制版,---剩余部分光刻胶的一些性质。
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透明基板1、透明玻璃 。石英玻璃(quartz glass)苏打玻璃(soda-lime glass)低膨胀玻璃(low expansion glass)2、透明树脂遮光膜(1)硬质遮光膜:铬膜氧化铁硅化钼硅。(2)乳胶。
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光掩膜一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过---将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具,光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
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