张家港制版-制版厂-制版公司

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    2020-9-2

马经理
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光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、sos中的蓝宝石。









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掩膜版:通俗点理解,相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够,是洗不出来照片的。光刻机施工前,要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃,玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。精度要求非常高。

  透镜:用透镜的光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,制版公司,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。要控制这个误差。精度要求---。

  就是测量台移动的控制器,也是纳米级精度,制版厂家,要求。







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光刻板本体的外部边缘增设一保护环,保护环具有多种开孔,以便在保护环处的硅片的边缘处刻出晶粒,将光刻板本体处的硅片保护起来,硅片边缘刻出晶粒后,边缘的不合格情况通过目测可以清楚看出,能有效防止混料情况;利用本实用新型刻出的硅片,在高压测试时,能防止漏电打火,安全性能具有较大提高






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