公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，制版，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过---过程将图形信息转移到产品基片上。
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其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交，后续加工工艺由---完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤，要求用户对所提交的版图文件仔细核对，---图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明 。
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掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金属铬薄膜，通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备，其制作过程就是典型的光刻工艺过程，包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。
制版-制版由苏州优版光电有限公司提供。“光电材料,光刻掩膜版”就选苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com），公司位于：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦b418室，多年来，苏州制版坚持为客户提供好的服务，联系人：马经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。苏州制版期待成为您的长期合作伙伴！
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