光刻板-制版

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！

溅镀法（sputtering）：（1）上平行板：装载溅镀金属的靶材；下平行板：作为溅镀对象的玻璃基板。（2）将气（ar 2 ）通入反应舱中形成等离子体；离子（ar + ）在电场中被加速后冲撞靶材；受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。

光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过---过程将图形信息转移到产品基片上。

1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（gds格式）2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式---（---波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应3） 经过显影、定---，---区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层4） 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，光刻板，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。5） 在有---的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。