光刻掩膜版材质可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和苏打掩膜版为高校和科研院所光刻时所常用的光刻掩膜版。
石英掩膜版
使用石英玻璃为基板材料,光学透过率高,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整和耐磨,使用---,主要用于掩膜版
使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,掩膜板,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像lcd,pcb等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
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光刻掩膜版(又称光罩,英文为mask reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过---过程将图形信息转移到产品基片上。
掩膜板-制版厂(图)由苏州优版光电有限公司提供。“光电材料,光刻掩膜版”就选苏州优版光电有限公司(www.szphotomask.com),公司位于:苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦b418室,多年来,苏州制版坚持为客户提供好的服务,联系人:马经理。欢迎广大新老客户来电,来函,亲临指导,洽谈业务。苏州制版期待成为您的长期合作伙伴!
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