公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩膜版（又称光罩，英文为mask reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过---过程将图形信息转移到产品基片上。
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光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中，掩膜版，光敏树脂是光刻胶的关键成分。
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机显时还要注意以下几点：要定期维护显影机，以---已---的ps版显影能正常进行。在显影之前必须保持各传动辊清洁，若牵引辊不干净，显影时印版易粘上脏点。如显影机有涂胶装置，一定注意胶辊要保持清洁，否则要弄脏印版。一般情况下，阳图ps版显影液(原液)的显影能力为10m2/l。上保护胶时，一定要均匀施胶，不能太厚，以免干后导致涂层龟裂和掉版。
掩膜版-光刻版(图)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司是从事“光电材料,光刻掩膜版”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供高的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：马经理。
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