制版-光刻版厂-盐城制版

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    2020-10-15

马经理
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在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际---中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复i制过来。









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通过金属化过程,在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在---(一般是紫外线)后可以被特定溶液(显影液)溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上,可以对光刻胶进行选择性照射(---)。然后使用前面提到的显影液,盐城制版,溶解掉被照射的区域,制版公司,这样,光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施,---剩余部分光刻胶的一些性质。






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光罩(英文:reticle, mask),在制作ic的过程中,利用光蚀刻技术,制版厂家,在半导体上形成图型,为将图型---晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像至相片上。







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