公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像lcd，光刻版，pcb等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模（reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用---和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术.
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如ic（integrated circuit，集成电路）、fpd（flat panel display，平板显示器）、pcb（printed circuit boards，印刷电路板）、mems（micro electro mechanical systems，微机电系统）等。
南通光刻版-光刻板由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、---发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州制版---携全体员工热情欢迎---垂询洽谈，共创苏州制版美好的未来。
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