掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版(光掩膜基版)由玻璃基板、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上从而制作成掩膜版。
根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和苏打掩膜版为高校和科研院所光刻时所常用的光刻掩膜版。
掩膜版是制作掩膜图形的理想感光---板,通过---过程,这些图形的信息将被传递到芯片上,嘉兴制版,用来制造芯片。
由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤,要求用户对所提交的版图文件仔细核对,---图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明。光掩模板或者光罩,---过程中的原始图形的载体,制版厂家,通过---过程,制版公司,这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,制版报价,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
实体结构:布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模(reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模(mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
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