公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。
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光刻板本体的外部边缘增设一保护环，保护环具有多种开孔，以便在保护环处的硅片的边缘处刻出晶粒，掩膜板，将光刻板本体处的硅片保护起来，硅片边缘刻出晶粒后，边缘的不合格情况通过目测可以清楚看出，能有效防止混料情况；利用本实用新型刻出的硅片，在高压测试时，能防止漏电打火，安全性能具有较大提高
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实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模（reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
浙江掩膜板-制版厂由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司拥有---的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和---。我们公司是商盟会员，---页面的商盟图标，可以直接与我们人员对话，愿我们今后的合作愉快！
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