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光掩膜一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过---将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
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在容栅电子光学微影技术性中，光罩表层的挡光图样会与基钢板上的光阻层触碰磨擦，非常容易促使挡光图样损耗促使光罩使用期减少。另一个，当施胶光亮阻层的基钢板表层并不是十分整平时，光罩与光阻层会造成不确定性的间隙与间距，徐州制版，而导致光源的光学散射与绕射，从而导致曝i光的规格偏差，而且导致光阻层浅部一部分的侧面曝i光范畴扩张，制版报价，因此没法制做出深奥长宽比的光阻构造。
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色彩：物体的色彩来源于光。自然界中绝大部分物体本身是不发光的，如印刷品、花草、树木。它们的颜色是来自对太阳光谱的色光加以反射或透射而产生的。自然界中光的三原色是红、绿、兰，这三种色光不同的组合可组成---种色光；色料的三原色是青、品红和黄，理论上，此三色颜料不同比例的混合，可得到自然界中1切颜色。
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