公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
数字图像处理中，图像掩模主要用于：提取感兴趣区，用预先制作的感兴趣区掩模与待处理图像相乘，掩膜版，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0。屏蔽作用，用掩模对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计。结构特征提取，用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩模相似的结构特征。特殊形状图像的制作。
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蚀刻工艺通常称为版
刻蚀（etch）是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术，它是半导体制造工艺，微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺，并会根据客户的需求，设计刻蚀效果好且---的刻蚀解决方案。
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光掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像lcd，pcb等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
光刻板-宿迁掩膜版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、---发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州制版---携全体员工热情欢迎---垂询洽谈，共创苏州制版美好的未来。
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