公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。
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一种具有保护环的光刻板，包括光刻板本体和设置在光刻板本体外圈的保护环，所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起，所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔，所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处，掩膜板，所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘，所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。
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机显时还要注意以下几点：要定期维护显影机，以---已---的ps版显影能正常进行。在显影之前必须保持各传动辊清洁，若牵引辊不干净，显影时印版易粘上脏点。如显影机有涂胶装置，一定注意胶辊要保持清洁，否则要弄脏印版。一般情况下，阳图ps版显影液(原液)的显影能力为10m2/l。上保护胶时，一定要均匀施胶，不能太厚，以免干后导致涂层龟裂和掉版。
光刻板(多图)-绍兴掩膜板由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司是从事“光电材料,光刻掩膜版”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供高的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：马经理。
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