公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光学掩模板的应用
光掩膜用于芯片制造，制版公司，主要是ic（集成电路）芯片，还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及pc板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片，光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影，这种方法就是熟称的---，这个时候的掩膜也可称为光罩。
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使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式---（---波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应
经过显影、定---，---区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层
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光掩膜一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过---将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具，光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
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