掩膜版-苏州制版(商家)

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    2020-11-30

马经理
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苏州优版光电有限公司提供掩膜版-苏州制版(商家)。

公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!


蚀刻工艺通常称为版

刻蚀(etch)是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性刻蚀的技术,它是半导体制造工艺,微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。刻蚀分为干法刻蚀和湿法腐蚀。原位芯片目前掌握多种刻蚀工艺,并会根据客户的需求,掩膜版,设计刻蚀效果好且---的刻蚀解决方案。













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石英掩膜版


使用石英玻璃为基板材料,光学透过率高,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整和耐磨,使用---,主要用于掩膜版


苏达掩膜版

使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版








公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!

使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。

在有---的情况下,使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层,并对掩膜版进行清洗。








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