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通过金属化过程，在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在---（一般是紫外线）后可以被特定溶液（显影液）溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上，盐城制版，可以对光刻胶进行选择性照射（---）。然后使用前面提到的显影液，溶解掉被照射的区域，制版价格，这样，光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施，---剩余部分光刻胶的一些性质。
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什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构，称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，制版，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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尺寸涨缩原因分析
胶片在光绘前没有经过预置
由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致，因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时，预置时必须打开胶片的内包装，使其与外界的空气充分接触。
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