公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用---和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进式光刻,接触式光刻等多种光刻技术.
光刻板的应用光刻技术主要应用于半导体器件,玻璃板,集成电路制造过程中
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如需要烤版,烤版时要注意:首先要选好烤版胶,烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制,一定要用热水溶胶,胶要---溶开、过滤再用。把适量的烤版胶涂在版面上,用海绵将版面涂擦均匀。烤版胶不能用干布擦拭。版材在烘版箱中烘烤,图像区域会均匀变色。不同的ps版,烘烤时间、温度及终颜色会不一致,所以需通过试验确定烤版条件。
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在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际---中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复
玻璃板-光刻版厂由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务,公司拥有“苏州制版”等品牌,---于光电子、激光仪器等行业。欢迎来电垂询,联系人:马经理。
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