公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应,选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用cr,因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线,在于你常用的光刻胶,每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构。掩膜版应用十分广泛,光刻板,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如ic(integrated circuit,集成电路)、fpd(flat panel display,平板显示器)、pcb(printed circuit boards,印刷电路板)、mems(micro electro mechanical systems,微机电系统)等。
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实体结构:布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模(reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模(mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
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