公司产品包括石英掩膜版，制版报价，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，制版，苏州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺直接影响着器件成品率、---性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。
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其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交，后续加工工艺由---完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤，要求用户对所提交的版图文件仔细核对，---图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明 。
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业内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 mask 或 photomask），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备---在感光胶上，被---的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似---后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，镇江制版，其生产加工工序为：---，显影，去感光胶，后应用于光蚀刻。
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