光罩-苏州制版(商家)

光刻工艺

是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，利用---和显影在光刻胶层上刻画器件结构，再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻，步进式光刻，接触式光刻等多种光刻技术.

光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性---的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如ic（integrated circuit，集成电路）、fpd（flat panel display，平板显示器）、pcb（printed circuit boards，印刷电路板）、mems（micro electro mechanical systems，微机电系统）等。